寻求一种污水处理薄膜,要求动态液膜达到超滤膜效果/ 寻求一种污水处理薄膜,要求动态液膜达到超滤膜效果

北京市
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项目信息

技术概要

技术名称
微流控动态液膜水处理系统
项目介绍
微流控动态液膜水处理系统
发布方
总站
技术归属
北京市
所属行业
生态环保
技术原理
仿生制造的精密机电设备首次取代了用高分子材料/无机材料制造的传统过滤膜
技术指标
指标名称 数据
过滤膜孔径约 0.05微米
厚度 10-150mm
应用场景
应用场景 场景需求
城市污水 处理
黑臭水体 治理
工业废水 过滤
小区中水 回用
详细描述
“微流控动态液膜水处理系统” 是集物理化学过滤、沉淀、浓缩、泥水分离、排泥为一体的新型高效节能污水处理设备。该项技术不同于传统生化法和MBR等技术路线,不用微生物细菌,不用充氧曝气,不装备任何滤膜和滤料,而是运用自身流体动力,辅助于化学药物絮凝通过调整流体的运动状态及其作用机理,在罐体内自行动态建膜而使污水得到过滤和净化,污水进入设备后直接排出清水。

专利信息

国家专利
专利名称 专利类型 专利号
国际专利
国际专利归属 专利号

技术概要

技术名称
项目介绍
发布方
技术归属
所属行业
技术原理
技术指标
指标名称 数据
应用场景
应用场景 场景需求
详细描述

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国家专利
专利名称 专利类型 专利号
国际专利
国际专利归属 专利号
需求介绍
寻求一种污水处理薄膜,要求动态液膜达到超滤膜效果
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  • 直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。 具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。 具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和 工艺。直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。具有齐全的激光直接成像设备的生产。
  • 直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。 具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。 具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和 工艺。直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。具有齐全的激光直接成像设备的生产。
  • 直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。 具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。 具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和 工艺。直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。具有齐全的激光直接成像设备的生产。
  • 直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。 具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。 具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和工艺。具有齐全的激光直接成像设备的生产、制造、检验和 工艺。直写光刻技术,应用于半导体/印刷线路板/IC封装。具有齐全的激光直接成像设备的生产。
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  • 该整套技术采用高速高光技术、精密平台技术及深紫外曝光技术。三大技术中分别由倾斜曝光技术、二次成像技术、 高速数据实时处理和传输链、平台扫描同步曝光技术、多光头同步技术图形数据处理技术、精密微环境控制。
    2017-04-30 15:30 15赞
    • 该整套技术采用高速高光技术、精密平台技术及深紫外曝光技术。三大技术中分别由倾斜曝光技术、二次成像技术、 高速数据实时处理和传输链、平台扫描同步曝光技术、多光头同步技术图形数据处理技术、精密微环境控制。
      2017-04-30 15:30 15赞
      以上为精选评论
      • 该整套技术采用高速高光技术、精密平台技术及深紫外曝光技术。三大技术中分别由倾斜曝光技术、二次成像技术、 高速数据实时处理和传输链、平台扫描同步曝光技术、多光头同步技术图形数据处理技术、精密微环境控制。
        2017-04-30 15:30 15赞